真(zhen)(zhen)空产品(pin)生(sheng)产厂(chang)家、真(zhen)(zhen)空行业(ye)(ye)的(de)(de)科技(ji)工作(zuo)者(zhe)每时(shi)每刻都(dou)应该掌(zhang)握自(zi)(zi)己(ji)(ji)(ji)工作(zuo)领域内最(zui)近、最(zui)新(xin)的(de)(de)学术(shu)动态，研究自(zi)(zi)己(ji)(ji)(ji)工作(zuo)范围内的(de)(de)前沿课题，以便给自(zi)(zi)己(ji)(ji)(ji)定位，确定自(zi)(zi)己(ji)(ji)(ji)的(de)(de)对(dui)策，找出(chu)自(zi)(zi)己(ji)(ji)(ji)前进的(de)(de)方向，积(ji)极参(can)加市场竞(jing)争，不断(duan)改(gai)革创新(xin)，才能立于(yu)不败之(zhi)地(di)。尤其是(shi)我国加入WTO之(zhi)后，真(zhen)(zhen)空科技(ji)工作(zuo)者(zhe)的(de)(de)目光应该更远大，获取科技(ji)信息就显得更为重要，它(ta)是(shi)企业(ye)(ye)存在的(de)(de)保障，是(shi)科技(ji)工作(zuo)者(zhe)的(de)(de)生(sheng)命线。

1、真空泵

真空泵的(de)种类很多，可按下表进行分(fen)类。

真(zhen)(zhen)空泵(beng)(beng)的(de)前沿课题(ti)主要有(you)：①号称(cheng)21世纪绿色真(zhen)(zhen)空泵(beng)(beng)的(de)各种(zhong)无油泵(beng)(beng)（干泵(beng)(beng)）的(de)研(yan)(yan)制；②喷射泵(beng)(beng)、扩散泵(beng)(beng)的(de)理(li)论研(yan)(yan)究与(yu)设(she)计(ji)计(ji)算；③探索创新泵(beng)(beng)的(de)工作原理(li)，研(yan)(yan)制新型泵(beng)(beng)。

2、真空计量

　　真(zhen)空(kong)计量目前研(yan)究的主(zhu)要内(nei)容有：

　　①真空度(全压力)测量与(yu)校准；

　　②真空质谱分析，分压力的测量(liang)与校准(zhun)；

　　③气体微流量(liang)(漏率)的(de)测量(liang)与校准(zhun)；

　　④材料放气率的测量；

　　⑤真空(kong)泵(beng)抽(chou)速测量(liang)。

真空计量(liang)研究的前(qian)沿(yan)课题可归纳为：

　　①研究非平(ping)衡态分(fen)子流理论，非平(ping)衡态分(fen)子流校(xiao)准系统(tong)(tong)，超音速分(fen)子流校(xiao)准系统(tong)(tong)，为(wei)空间真空测量和校(xiao)准解(jie)决(jue)难题；

　　②研究微小漏气率测量、校准技(ji)术；

　　③研究(jiu)解决极高(gao)真空的测(ce)量(liang)、校(xiao)准问题，寻找新(xin)的测(ce)量(liang)理论；

　　④研究(jiu)材料微量放气率测量与放气成分(fen)分(fen)析技(ji)术(shu)

　　⑤研究解决扩散泵返油率的(de)测(ce)量(liang)问题，寻找新的(de)测(ce)量(liang)方法(fa)。

3、真空镀膜

　　真(zhen)空(kong)镀膜(mo)是(shi)真(zhen)空(kong)科学(xue)技术(shu)领域(yu)中(zhong)(zhong)最活跃的一(yi)门应用技术(shu)，它涉(she)及(ji)到镀膜(mo)设(she)备(bei)、工(gong)艺、膜(mo)材、靶材等诸多(duo)方面，薄膜(mo)的种类很多(duo)，这里只(zhi)能简单论述其中(zhong)(zhong)的一(yi)部分。

3.1、硬质薄膜

　　自(zi)然界中金刚石最硬，立方氮化硼(peng)第二，碳(tan)化硼(peng)第三。

　　①金刚石膜(CVD法生产(chan)): 热丝CVD法金刚石膜沉(chen)积速率可达 2.5μm/h，HV40~50GPa；

　　②B4C 碳化硼：用磁控溅射法生产，高温(wen)热稳(wen)定性好(hao)，1100℃以上，它是(shi)最硬材料(liao)，HV50.4gPa；

　　③复(fu)合(he)膜(mo)：TiN-第(di)1代；TiCN、TiAlN--第(di)二代; 第(di)三代是多组(zu)元(yuan)复(fu)合(he)膜(mo)和多层(ceng)(ceng)膜(mo)体系;TiN/TiCN、TiN/NbN、TiN/TiAlN、TiN/CrN、TaN/NbN(氮(dan)(dan)化钽/氮(dan)(dan)化铌)，HV55.6GPa，发展(zhan)成多层(ceng)(ceng)纳米梯度膜(mo)- TiAl、TiAl1、TiAl2、ZrN(氮(dan)(dan)化锆)。发展(zhan)方向(xiang)：提高膜(mo)的(de)韧性、耐(nai)磨性、耐(nai)热性、耐(nai)蚀性。

3.2、金刚(gang)石涂层刀具

研究方(fang)向(xiang)：①提高(gao)金刚(gang)石涂层(ceng)与基体之间附(fu)着(zhe)力，设计(ji)中(zhong)间过渡(du)层(ceng)，开发多(duo)涂层(ceng)刀具; ②增(zeng)大沉积面积，提高(gao)生长速(su)率; ③研究PVD法金刚(gang)石涂层(ceng)理论和工艺。

3.3、光、电、 磁各(ge)种功能(neng)膜(mo)

　　这些功能(neng)膜种类繁多，性能(neng)各异，这里仅举部分例证(zheng)。

　　①发光薄(bo)膜(mo)：Y2O3:Eu(尿素D溶液(ye)法)Eu(射频溅射法);

　　②冷光膜- 可(ke)见光区高反射(she)，红外光区高透射(she)，实现冷光照(zhao)射(she)，达到保护被照(zhao)物目的;

　　③有机光(guang)电薄(bo)膜：金属酞菁膜：CuPc-PbPc;CuPc/ZnS; 酞菁氧钛具有极(ji)高光(guang)敏系数;

　　④光电(dian)功能复合膜(mo)- Ag-Au-SiO2，Ag-BaO，Ag-SiO2,Ag-MgF2，其中(zhong)Ag-MgF2纳米金(jin)属陶瓷(ci)薄膜(mo)具有光吸收特性，Ag-BaO具有光电(dian)发射特性；

　　⑤透明导电膜：ITO(In2O3:Sn),ZAO(ZnO:Al)，IMO(In2O3:Mo);

　　⑥光致变色薄膜：18烷基取代螺吡(bi)喃薄膜(SP-18),在(zai)紫外(wai)光照下(xia)变色，在(zai)可见光照下(xia)恢复(fu)无色，可用(yong)于光信(xin)息存储、光控开(kai)关等(deng)；

　　⑦磁光(guang)记录薄膜：PbFeCo(铅铁(tie)钴);

　　⑧超大规模集成电(dian)路(lu)(VLSI)： 在(zai)Si基片(pian)上溅(jian)射Cu或(huo)Al，实现多层布(bu)线;

　　⑨半导体膜：SiC、ZnO；

　　⑩其它(ta)光电磁等特性功能(neng)膜：

　　LiF、CaF2用(yong)于平(ping)面(mian)型场发射显示器;

　　Fe/Cr多层膜有巨磁电(dian)阻(GMR) ;

　　Fe=SiO2膜具有隧道磁电阻(zu)效(xiao)应(TMR);

　　TiO2膜具有(you)优良的(de)介电、压电、气(qi)敏和光(guang)催化功能;

　　Cu-SCN-Al(有机(ji)络和物(wu))有极性记忆效应;

　　三乙胺- 四氰-P-醌二甲烷(TEA(TCNQ)2)单晶是(shi)一(yi)种可以用来进(jin)行高密度信息存储的有机(ji)复合材料;

　　YBCO属高温超导(dao)(HTS)膜。

3.4、装(zhuang)饰膜

　　研(yan)究(jiu)方向：①对薄膜(mo)材(cai)(cai)料的(de)(de)研(yan)究(jiu)正向复合化、 多种类、高性能、新(xin)工艺方向发展②研(yan)究(jiu)复合膜(mo)的(de)(de)设计(ji)、性能检测、制备(bei)方法; ③研(yan)究(jiu)薄膜(mo)应力( 牢固度) ;④研(yan)究(jiu)大面积靶(ba)材(cai)(cai)制作技术，提高靶(ba)材(cai)(cai)利用率。

3.5、前(qian)沿课题

　　①发现具有新(xin)特性的新(xin)的膜(mo)层材料;

　　②设计具有特殊功能的新的膜(mo)系(xi)(复合膜(mo));

　　③发展高科技(ji)产业(ye)，例如集成电路产业(ye)，信息存储(chu)产业(ye)，平面显(xian)示器产业(ye)，包括液晶(jing)显(xian)示器(LCD)，等离子体(ti)显(xian)示器(PDP)， 场致发射显(xian)示器(EL)；

　　④深入膜层结构与(yu)特性关系等理论研(yan)究。